Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://dspace.snu.edu.ua:8080/jspui/handle/123456789/261
Название: Компьютерное моделирование эмиссии атомов металла при ионной бомбардировке мишени
Другие названия: COMPUTER SIMULATION OF THE EMISSION OF METAL ATOMS AT THE IONIC BOMBARDMENT OF THE TARGET
Авторы: Гончаров, В.В.
Hоnchаrоv, V.V.
Ключевые слова: ионная имплантация
ион
эмиссия
компьютерная модель
коэффициент распыления
іонна імплантація
іон
емісія
комп'ютерна модель
коефіцієнт розпилення
ionic implantation
ion
emission
the computer model
the sputtering coefficient
Дата публикации: 2014
Издательство: СНУ ім. В.Даля
Библиографическое описание: Гончаров В.В. Компьютерное моделирование эмиссии атомов металла при ионной бомбардировке мишени / В.В. Гончаров // Наукові вісті Далівського університету. - Сєвєродонецьк: Вид-во СНУ ім. В. Даля
Краткий осмотр (реферат): В статье исследован вопрос распыления материала мишени при его ионной бомбардировке. Рассмотрены существующие математические модели для изучения взаимодействия ионов с веществом при ионной имплантации. Выбрана оптимальная модель определения коэффициента распыления и на её основе создана компьютерная программа "КЕА", позволяющая производить расчет эмиссии атомов мишени в зависимости от внешних факторов. Проведен сравнительный анализ результатов расчета по полученной программе с данными из литературы.
У статті досліджено питання розпилення матеріалу мішені при його іонному бомбардуванні. Розглянуто існуючі математичні моделі для вивчення взаємодії іонів з речовиною при іонній імплантації. Обрана оптимальна модель визначення коефіцієнта розпилення і на її основі створена комп'ютерна програма "КЕА", що дозволяє проводити розрахунок емісії атомів мішені в залежності від зовнішніх факторів. Проведено порівняльний аналіз результатів розрахунку за отриманою програмою з даними з літератури.
The question of target material sputtering under ionic bombardment is studied in the article. The existing mathematical models for study of the interaction of ions with matter by ionic implantation are examined. The optimal model for determining the sputtering coefficient is selected. Based on it a computer program "KEA", which allows to calculate the emission of target atoms depending on external factors is created. A comparative analysis of the calculation results obtained by the program with data from the literature is given.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): http://dspace.snu.edu.ua:8080/jspui/handle/123456789/261
Располагается в коллекциях:№ 11

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
12.pdf764,08 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.